1.  三溫區(qū)真空蒸餾爐設(shè)備用途：

本設(shè)備采用立式井式爐蓋升降結(jié)構(gòu)，可用于粗硒提純覆蓋、鉛錫合金異常狀況、鋅渣（熱鍍鋅渣）研究、鉛銻合金等有色金屬分離提純小型實(shí)驗(yàn)與探索研究。

2.  三溫區(qū)真空蒸餾爐設(shè)備圖

3.  三溫區(qū)真空蒸餾爐 主要技術(shù)參數(shù)

3.1 電源：三相 380V 50Hz

3.2 加熱功率：12Kw

3.3 ***溫度：1200℃

3.4．使用溫度1000℃一區(qū)蒸餾熔化***溫度：1000℃二區(qū)冷凝收集溫度：350-600℃

3.5三區(qū)冷凝收集溫度：室溫-100℃

3.6.控溫精度：±1℃

3.7·控溫溫區(qū)：3區(qū)（熔化蒸餾區(qū) 收集區(qū)1收集區(qū)2）

3.8·蒸餾容量：1kg

3.9·蒸餾坩堝尺寸：￠80*80

3.10. 爐罐尺寸：￠400*600mm（以實(shí)際設(shè)計(jì)為準(zhǔn)）

3.11控溫方式：S型熱電偶

3.12控溫精度：±1℃

3.13冷態(tài)極限真空度：6.7*10-4Pa（空爐應用創新、冷態(tài)提高、烘烤除氣后）

3.14壓升率：4Pa/h

3.15充氣壓力：≤0.05MPa

3.16控制方式：觸摸屏+plc